High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000200" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000200 - isvavai.cz</a>
Alternative codes found
RIV/49777513:23520/07:00000201
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments
Original language description
The original model developed by Christie (2005) for high-power pulsed magnetron sputtering was modified. A weak additional ionization of sputtered atoms in a plasma bulk was included and description of the losses of target material neutrals and ions wassimplified. The calculations were carried out for two technologically interesting materials (copper and titanium) with very different characteristics. A completely different trend in the calculated values of the deposition rate per unit discharge power input and the same trend in the values of the ionized fraction of sputtered atoms in the flux onto the substrate were confirmed by our measurements. The depositions were performed using a newly designed, strongly unbalanced magnetron system with a targetof 100mm in diameter.
Czech name
Vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování : Model a experimenty
Czech description
Byl modifikován původní model vyvinutý Christiem (2005) pro vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování.Slabá dodatečná ionizace rozprášených atomů byla zahrnuta do modelu a popis ztrát neutrálů a iontů terčového materiálu byl zjednodušen. Výpočty byly provedeny pro dva technologicky zajímavé materiály (měď a titan) s velmi rozdílnými vlastnostmi. Úplně odlišný trend vypočtených hodnot depoziční rychlosti na jednotku dodaného výkonu do výboje a stejný trend u hodnot ionizovaného podílu rozprašovanýchatomů v toku na substrát byly potvrzeny našimi měřeními. Depozice byly uskutečněny použitím nově navrženého, silně nevyváženého magnetronového systému s ter
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
XXVIII International conference on phenomena in ionized gases
ISBN
978-80-87026-01-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
4
Pages from-to
625-628
Publisher name
Institute of Plasma Physics AS CR
Place of publication
Prague
Event location
Praha
Event date
Jan 1, 2007
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—