All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000200" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000200 - isvavai.cz</a>

  • Alternative codes found

    RIV/49777513:23520/07:00000201

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    High-power pulsed magnetron sputtering: Model and experiments

  • Original language description

    The original model developed by Christie (2005) for high-power pulsed magnetron sputtering was modified. A weak additional ionization of sputtered atoms in a plasma bulk was included and description of the losses of target material neutrals and ions wassimplified. The calculations were carried out for two technologically interesting materials (copper and titanium) with very different characteristics. A completely different trend in the calculated values of the deposition rate per unit discharge power input and the same trend in the values of the ionized fraction of sputtered atoms in the flux onto the substrate were confirmed by our measurements. The depositions were performed using a newly designed, strongly unbalanced magnetron system with a targetof 100mm in diameter.

  • Czech name

    Vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování : Model a experimenty

  • Czech description

    Byl modifikován původní model vyvinutý Christiem (2005) pro vysokovýkonové pulzní magnetronové naprašování.Slabá dodatečná ionizace rozprášených atomů byla zahrnuta do modelu a popis ztrát neutrálů a iontů terčového materiálu byl zjednodušen. Výpočty byly provedeny pro dva technologicky zajímavé materiály (měď a titan) s velmi rozdílnými vlastnostmi. Úplně odlišný trend vypočtených hodnot depoziční rychlosti na jednotku dodaného výkonu do výboje a stejný trend u hodnot ionizovaného podílu rozprašovanýchatomů v toku na substrát byly potvrzeny našimi měřeními. Depozice byly uskutečněny použitím nově navrženého, silně nevyváženého magnetronového systému s ter

Classification

  • Type

    D - Article in proceedings

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>

  • Continuities

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2007

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Article name in the collection

    XXVIII International conference on phenomena in ionized gases

  • ISBN

    978-80-87026-01-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Number of pages

    4

  • Pages from-to

    625-628

  • Publisher name

    Institute of Plasma Physics AS CR

  • Place of publication

    Prague

  • Event location

    Praha

  • Event date

    Jan 1, 2007

  • Type of event by nationality

    WRD - Celosvětová akce

  • UT code for WoS article