Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000204" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000204 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films
Original language description
The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail.
Czech name
Vliv vodíku na reaktivní naprašování transparentních oxidových vrstev
Czech description
Tento článek pojednává o vlivu přidání H2 do výbojové Ar+O2 směsi na vlastní proces dc reaktivního magnetronového naprašování oxidů a na elektrickou vodivost transparentních oxidových vrstev. Byly zkoumány čtyři systémy: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2. Bylo zjištěno, že přidání H2 do Ar+O2 výbojové směsi má za následek: pokles výbojového napětí, výraznou změnu závislosti a dramatický pokles elektrické rezistivity naprášených oxidových vrstev. Tyto výsledky jsou podrobně diskutovány.
Classification
Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
—
Continuities
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Others
Publication year
2007
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Name of the periodical
Plasma Processes and Polymers
ISSN
1612-8850
e-ISSN
—
Volume of the periodical
—
Issue of the periodical within the volume
—
Country of publishing house
DE - GERMANY
Number of pages
1
Pages from-to
—
UT code for WoS article
—
EID of the result in the Scopus database
—