All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000204" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000204 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    angličtina

  • Original language name

    Effect of Hydrogen on Reactive Sputtering of Transparent Oxide Films

  • Original language description

    The article reports on the effect of addition of H2 into a mixture of Ar+O2 on the process of dc reactive magnetron sputtering of oxides and the electrical conductivity of transparent oxide films. Four systems were investigated: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2 fils. It was found that the addition of H2 into Ar+O2 sputtering gas mixture results in: decrease in the magnetron discharge voltage , strong change of the dependence and dramatic decrease of electrical resistivity of sputtered transparent oxide films. These results are described in detail.

  • Czech name

    Vliv vodíku na reaktivní naprašování transparentních oxidových vrstev

  • Czech description

    Tento článek pojednává o vlivu přidání H2 do výbojové Ar+O2 směsi na vlastní proces dc reaktivního magnetronového naprašování oxidů a na elektrickou vodivost transparentních oxidových vrstev. Byly zkoumány čtyři systémy: In-Sn-O, TiO2, Ti-Y-O a ZrO2. Bylo zjištěno, že přidání H2 do Ar+O2 výbojové směsi má za následek: pokles výbojového napětí, výraznou změnu závislosti a dramatický pokles elektrické rezistivity naprášených oxidových vrstev. Tyto výsledky jsou podrobně diskutovány.

Classification

  • Type

    J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

  • CEP classification

    BL - Plasma physics and discharge through gases

  • OECD FORD branch

Result continuities

  • Project

  • Continuities

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Others

  • Publication year

    2007

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Name of the periodical

    Plasma Processes and Polymers

  • ISSN

    1612-8850

  • e-ISSN

  • Volume of the periodical

  • Issue of the periodical within the volume

  • Country of publishing house

    DE - GERMANY

  • Number of pages

    1

  • Pages from-to

  • UT code for WoS article

  • EID of the result in the Scopus database