High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000241" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000241 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/49777513:23520/07:00000242

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

High-power pulsed sputtering using a magnetron with enhanced plasma confinement

Original language description

High-power pulsed dc magnetron discharges for ionized high-rate sputtering of metallic films were systematically investigated. The depositions were performed using two unbalanced circular magnetrons of different types with a directly water-cooled planarcopper target of 100mm in diameter. The repetition frequency was 1kHz at a fixed 20% duty cycle and an argon pressure of 0.5Pa. Time evolutions of the discharge characteristics were measured to provide information on absorption of energy in the dischargeplasma and on transfer of arising ions to the substrate at a target power density in a pulse up to 950 W/cm2.

Czech name

Vysokovýkonové pulzní naprašování pomocí magnetronu se zesíleným omezením plazmatu

Czech description

Byly zkoumány vysokovýkonové magnetronové výboje pro vysokorychlostní naprašování vrstev mědi. Opakovací frekvence byla 1kHz při dvacetiprocentním využití pulzní periody a tlaku argonu 0.5Pa. Bylo dosaženo velmi vysoké depoziční rychlosti 2 mikrometry/min a vysokého podílu iontů mědi (až 92%)v celkovém toku iontů na substrát. Trendy naměřených hodnot pro depoziční rychlost vztaženou na jednotku výkonové zátěže a pro podíl iontů rozprašovaných částic v celkovém toku částic terčového materiálu na substrát(až 56%) byly objasněny na základě modelových predikcí.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

<a href="/en/project/ME%20673" target="_blank" >ME 673: New resources of plasma for creation of thiny layers.</a><br>

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

US - UNITED STATES

Number of pages

6

Pages from-to

42

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—