Ti-Si-N Films with a High Content of Si

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000289" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000289 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Ti-Si-N Films with a High Content of Si

Original language description

The article reports on mechanical properties and oxidation of amorphous Ti-Si-N films with a high content of Si reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron sputtering system operating in AC pulse mode. The films were sputtered fromcompound targets on Si, 15330 steel and Al2O3 substrates. It was found that the Ti-Si-N films with a high content of N are X-ray amorphous and exhibit relatively high hardness H ranging from 20 to 27 GPa and high oxidation temperature achieving 1480°C for the Ti-Si-N film on the Al2O3 substrate, and Young's modulus of the films is strongly affected by mechanical properties of the substrate.

Czech name

Vrstvy Ti-Si-N s vysokým obsahem Si

Czech description

Článek pojednává o mechanických vlastnostech a oxidaci amorfních vrstev Ti-Si-N s vysokým (>20 at.%) obsahem Si, které byly reaktivně naprášeny s použitím duálního magnetronu ve střídavém pulzním režimu a uspořádání s uzavřeným magnetickým polem. Vrstvybyly naprášeny ze skládaných Ti-Si terčů na substráty Si(100), ocel ČSN 15 330 a Al2O3. Bylo zjištěno, že (1) vrstvy Ti-Si-N s vysokým (&#61619;50 at.%) obsahem N jsou amorfní a vykazují (i) poměrně vysokou tvrdost v rozmezí mezi ~20 a 27 GPa a (ii) vysokou teplotu oxidace dosahující ~1480 °C pro a-Ti-Si-N vrstvu na Al2O3 (safír) substrátu a (2) měření Youngova modulu pružnosti vrstev je výrazně ovlivněno mechanickými vlastnostmi substrátu.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Volume of the periodical

—

Issue of the periodical within the volume

—

Country of publishing house

DE - GERMANY

Number of pages

1

Pages from-to

—

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—