Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500274" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500274 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Properties of magnetron sputtered Al-Si-N thin films with a low and high Si content
Original language description
The article reports on properties of Al-Si-N films with a low and high Si content reactively sputtered using a closed magnetic field dual magnetron system operated in ac pulse mode. The films were sputtered from a composed target. Main attention was devoted to the investigation of a relationship between the structure of the films and their mechanical properties, thermal stability of hardness, and oxidation resistance.
Czech name
Vlastnosti tenkých vrstev Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených magnetronovým naprašováním
Czech description
Článek se zabývá tenkými vrstvami Al-Si-N s nízkým a vysokým obsahem Si připravených ac pulzním duálním magnetronovým systémem s uzavřeným magnetickým polem. Vrstvy byly připraveny ze skládaných Si/Al terčů. Hlavní důraz byl kladen na vztah mezi strukturou vrstev a jejich mechanickými vlastnostmi, teplotní stabilitou tvrdosti a oxidační odolností. Mezi hlavní výsledky patří zjištění, že vrstvy dosahují tvrdosti mezi 21 a 25 GPa, oxidační odolnost vrstev přesahuje 1000°C tvrdost amorfních Al-Si-N vrstevse nemění po 4 hod. žíhání ve vzduchu při teplotě 1100°C.

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—

Publication year
2008
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)