Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500501" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500501 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Mechanical and optical properties of quaternary Si-B-C-N films prepared by reactive magnetron sputtering

Original language description

Quaternary Si-B-C-N films were prepared using reactive direct current magnetron co-sputtering. We focused on complex relationships between process parameters, elemental composition, bonding structure, and mechanical, tribological and optical properties of the deposited materials. The films exhibit a high hardness (up to 36 GPa) and a good adhesion to Si(100) substrates at a low compressive stress (1.0-1.6 GPa), refractive index ranging from 1.8 to 2.2 (at 550 nm) and an extinction coefficient between 2x 10"4 and 0.3. The Si-B-C-N films appear attractive for both tribological and optoelectronic applications.

Czech name

Mechanické a optické vlastnosti vrstev kvaternárního systému Si-B-C-N

Czech description

Metodou reaktivního magnetronového naprašování byly připraveny vrstvy systému Si-B-C-N. Práce se zaměřuje na hledání vztahů mezi procesními parametry, prvkovým složením, vazebnou strukturou a mechanickými, tribologickými a optickými vlastnostmi připravených materiálů. Vrstvy vykazují vysokou tvrdost (do 36 GPa), dobrou adhezi k substrátu Si(100) při nízkém tlakovém pnutí (1.0-1.6 GPa), index lomu od 1.8 do 2.2 (při 550 nm) a extinkční koeficient od 2 x 10"4 do 0.3. Díky těmto vlastnostem jsou vrstvy Si-B-C-N vhodné pro použití v tribologických a optoelektronických aplikacích.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Volume of the periodical

516

Issue of the periodical within the volume

21

Country of publishing house

NL - THE KINGDOM OF THE NETHERLANDS

Number of pages

8

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000259727900004

EID of the result in the Scopus database

—