Deposition technology of periodically structured photonic materials with spatial-controlled crystallization of silicon.
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23640%2F14%3A43924671" target="_blank" >RIV/49777513:23640/14:43924671 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Deposition technology of periodically structured photonic materials with spatial-controlled crystallization of silicon.
Original language description
Deposition technology of multi-layered absorption films with silicon nano-crystals vertically separated by SiO2 or Si3N4 dielectric layers for photonic applications has been developed. Photonic properties of materials occur when material is anisotropic or inhomogeneous from relative permitivity point of view. That goes also for an inhomogeneous optical material bordering with a material having different refractive index. Apart from the multi-layered structures having materials with different refractiveindex, a micro-crystalline silicon containing with various volume content of amorphous and crystalline phases and micro-voids, has also distinctive photonic properties (every phase mentioned above has different refractive index).
Czech name
—
Czech description
—
Classification
Type
Z<sub>tech</sub> - Verified technology
CEP classification
BM - Solid-state physics and magnetism
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/ED2.1.00%2F03.0088" target="_blank" >ED2.1.00/03.0088: Centre of the New Technologies and Materials</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2014
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Internal product ID
NTC-OTE-14-012
Numerical identification
—
Technical parameters
K přípravě multivrstev Si3N4/nc-Si se využívá PECVD aparatura SAMCO 220NA a k tepelnému zpracování vysokoteplotní komora AP 1200, která je součástí rtg difraktometru X'Pert Pro, tudíž lze současně sledovat "in situ" fázové transformace. Proces lze snadnopřenést na jiná podobná zařízení. David Lávička, Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), Nové technologie - výzkumné centrum, Univerzitní 8, 306 14 Plzeň, 377634714, dlavicka@ntc.zcu.cz. http://www.ntc.zcu.cz/vysledky/ot/NTC-OTE-14-012.html
Economical parameters
Výsledek je využíván příjemcem Západočeská univerzita v Plzni (IČO 49777513), ekonomické parametry se neuvádějí
Application category by cost
—
Owner IČO
49777513
Owner name
Západočeská univerzita v Plzni
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
N - Využití výsledku jiným subjektem je možné bez nabytí licence (výsledek není licencován)
Licence fee requirement
—
Web page
—