Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00022411" target="_blank" >RIV/68081731:_____/05:00022411 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
angličtina
Original language name
Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study
Original language description
High resolution imaging of doped areas in semiconductors with slow electrons is one of hot topics for both solid state physics and technology. Recent study employing the scanning low energy electron microscope demonstrated a high image contrast of dopants but only low attention has been devoted to the photoemission electron-microscopic (PEEM) imaging of these structures. Previous works ascribed the crucial role to local differences in the photoemission threshold while the present study claims the contrast more likely coming from local differences in absorption of hot electrons due to pair generation.
Czech name
Mapování dopantů v polovodičích: studium pomocí PEEM
Czech description
Zobrazení dopovaných oblastí polovodiče pomocí pomalých elektronů s vysokým rozlišením je jedním z aktuálních témat výzkumu ve fyzice pevné fáze i v technologiích. Nedávná práce používající rastrovací mikroskopii pomalými elektrony prokázala vysoký obrazový kontrast dopantů, nicméně jen malá pozornost byla doposud věnována fotoemisnímu elektronově mikroskopickému zobrazení těchto struktur. Jestliže minulé studie připisovaly rozhodující úlohu místním rozdílům v úrovni prahu fotoemise, zde předložené výsledky naznačují, že kontrast spíše pochází od lokální variability absorpce horkých elektronů prostřednictvím generace párů.
Classification
Type
D - Article in proceedings
CEP classification
JA - Electronics and optoelectronics
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/GA202%2F04%2F0281" target="_blank" >GA202/04/0281: Mapping at a high spatial resolution of the local density of electron states via reflection of very slow electrons</a><br>
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Others
Publication year
2005
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Article name in the collection
Proceedings - Microscopy Conference 2005 - Dreiländertagung /6./
ISBN
1019-6447
ISSN
—
e-ISSN
—
Number of pages
1
Pages from-to
321
Publisher name
Paul Scherrer Institute
Place of publication
Villigen
Event location
Davos
Event date
Aug 28, 2005
Type of event by nationality
WRD - Celosvětová akce
UT code for WoS article
—