Composition of Ti-C:H films obtained by pulsed and continuous magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F05%3A00030201" target="_blank" >RIV/68378271:_____/05:00030201 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Composition of Ti-C:H films obtained by pulsed and continuous magnetron sputtering

Original language description

The Ti-C:H films have been prepared by reactive pulsed and continuous DC magnetron sputtering of the Ti target in a gas mixture of Ar and CH4. For continuous sputtering, the discharge power was 300, 950 and 2850 W. At pulsed sputtering, the average discharge power was about 950 W in most depositions, while pulse power was varied from 2850 to 13000 W. The composition of the obtained films depended very strongly on the power for continuous discharge and only slightly on the pulse power at constant averagepower. In the latter case the film composition depended on pulse duration, CH4/Ar ratio and, in general, did not coincide with that obtained by continuous sputtering at the same power

Czech name

Složení Ti-C:H filmů připravených pulzním a kontinuálním magnetronovým naprašováním

Czech description

Pulzním a kontinuálním stejnosměrným magnetronovým odprašováním z Ti targetu ve směsi Ar a CH4 byly připraveny filmy Ti-C:H. Stejnosměrný výkon výboje byl 300, 950 a 2850 W pro kontinuální naprašování. Pro většinu pulzních depozic byl střední výkon 950 W; výkon v pulzu se měnil od 2850 do 13000 W. Složení filmů značně záviselo na kontinuálním výkonu, ale jen mírně na výkonu pulzu při konstantním středním výkonu ? v tomto případě složení záviselo na délce pulzu a poměru CH4/Ar; obecně složení filmů nesouhlasí s odpovídajícími filmy připravenými kontinuálním naprašováním při témž výkonu

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2005

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Volume of the periodical

200

Issue of the periodical within the volume

1-4

Country of publishing house

CH - SWITZERLAND

Number of pages

5

Pages from-to

620-624

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—