Study of the plasmas produced during the deposition of TiC/SiC thin films in a hybrid magnetron-laser system

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F06%3A00042156" target="_blank" >RIV/68378271:_____/06:00042156 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
angličtina
Original language name
Study of the plasmas produced during the deposition of TiC/SiC thin films in a hybrid magnetron-laser system
Original language description
Spectra of the plasmas produced by a) the magnetron alone, b) the ablation laser alone, and c) the magnetron and ablation laser together, were recorded. Spectra (a) were determined by Ar atoms and Ar+ ions. Emission lines of Ti and Si were detected, whenTi target and Si target was used, respectively. Spectra (b) revealed emission of C, C+, C2, Ar, Ar+. Spectra (c) showed presence of all previously mentioned species and further of Ti+ ions emission was detected
Czech name
Studium plazmatu vznikajícího během přípravy TiC a SiC tenkých vrstev v hybridním magnetron-laserovém depozičním systému
Czech description
Plazma v hybridním systému založeném na kombinaci DC magnetronového naprašování (Ti nebo Si terč) a laserové depozice (grafitový terč) bylo studováno pomocí časově a prostorově rozlišené spektroskopie. V emisních spektrech dominovaly linie Ar a Ar+, dáledetekována emise Ti, Ti+, C, C+ a C2. Byl pozorován vliv interakce laserového a magnetronového plazmatu na koncentraci excitovaných částic v blízkém okolí substrátu

Type
J<sub>x</sub> - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—

Project
Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.
Continuities
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year
2006
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Similar results(10)