Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F07%3A00096427" target="_blank" >RIV/68378271:_____/07:00096427 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Hardness of nanocomposite a-C:Si films deposited by magnetron sputtering

Original language description

Hydrogen-free a-C:Si films with Si concentration from 3 to 70 at.% were prepared by magnetron co-sputtering of pure graphite and silicon targets.Mechanical properties (hardness, intrinsic stress), film composition (EPMA and XPS) and film structure (electron diffraction, Raman spectra) were investigated in dependence on Si concentration, substrate bias and deposition temperature. The film hardness was maximal for -45 at.% of Si and deposition temperatures 600 and 800 °C. Reflection electron diffraction indicated an amorphous structure of prepared films.Raman spectra showed that the films in the range of 35 - 70 at.% of Si always contain three bands corresponding to the Si, SiC and C clusters

Czech name

Tvrdost nanokompozitních vrstev a-C:Si deponovaných magnetronovým naprašováním

Czech description

Vodík neobsahující vrstvy a-C:Si s koncentrací Si od 3 do 70 at.% byly připravovány magnetronovým ko-sputteringem z targetů z čistého grafitu a křemíku. Mechanické vlastnosti (tvrdost,vnitřní pnutí),složení vrstev (EPMA a XPS) a struktura (elektronová difrakce a ramanova spektroskopie) byly zkoumány v závislosti na koncentraci Si, předpětí na substrátu a depoziční teplotě. Maximum tvrdosti bylo dosaženo při koncentraci Si 45 at.% a při depozičních teplotách 600 a 800 °C. Reflexní elektronová difrakce indikovala amorfní strukturu připravovaných vrstev. Ramanovy spektra ukazují na existenci 3 pásů odpovídajících klastrům Si, SiC a C pro koncentrace Si z intervalu 35 - 70 at.%

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2007

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Volume of the periodical

16

Issue of the periodical within the volume

-

Country of publishing house

CH - SWITZERLAND

Number of pages

7

Pages from-to

167-173

UT code for WoS article

—

EID of the result in the Scopus database

—