Mechanical properties of amorphous and microcrystalline silicon films

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00321380" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00321380 - isvavai.cz</a>

Alternative codes found

RIV/61989592:15310/08:00005881

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Mechanical properties of amorphous and microcrystalline silicon films

Original language description

Hydrogen-free amorphous silicon (a-Si) films were prepared by magnetron sputtering of pure silicon. Mechanical properties (hardness, intrinsic stress, elastic modulus), and film structure (Raman spectra, electron diffraction) were investigated in dependence on the substrate bias and temperature. The increasing negative substrate bias or Ar pressure results in simultaneous reducing compressive stress, the film hardness and elastic modulus. The crystalline structure (c-Si) starts to be formed at deposition temperature of 700 °C. The hardness and elastic modulus of c-Si films were very close to monocrystalline Si(111). Phase transformations observed in the samples at indentation depend not only on the load and loading rate but also on the initial phase ofsilicon. However, the film hardness is not too sensitive to the presence of phase transformations.

Czech name

Mechanické vlastnosti amorfních a mikrokrystalických křemíkových vrstev

Czech description

Filmy amorfního křemíku (a-Si) byly připraveny magnetronovým naprašováním čistého křemíku. Mechanické vlastnosti (Tvrdost, vnitřní pnutí, elastický modul) a struktura filmu (Ramanova spektra, elektronová difrakce) byla zkoumána v závislosti na teplotě substrátu a "bias". Vzrůst negativního "bias" nebo tlaku Ar vede k současné redukci vnitřních pnutí, tvrdosti a elastického modulu. Krystalická struktura (c-Si) se začíná formovat při depoziční teplotě 700 °C. Tvrdost a elastický modul c-Si filmů se blížímonokrystalickému křemíku (111). Pozorovaná fázová transformace při indentaci nezávisí jen na zátěžné síle a její rychlosti rástu, ale též na původní fázi Si. Tvrdost těchto filmů není však výrazně citlivá na tutu fázovou transformaci.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BM - Solid-state physics and magnetism

OECD FORD branch

—

Project

Result was created during the realization of more than one project. More information in the Projects tab.

Continuities

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Volume of the periodical

516

Issue of the periodical within the volume

16

Country of publishing house

CH - SWITZERLAND

Number of pages

8

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000257452200046

EID of the result in the Scopus database

—