Device to control deposition of thin layers in vacuum multijet plasma system
The result's identifiers
Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F16%3A00466215" target="_blank" >RIV/68378271:_____/16:00466215 - isvavai.cz</a>
Result on the web
<a href="https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241582&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternative languages
Result language
čeština
Original language name
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Original language description
Technické řešení spadá do oblasti aplikace technologických postupů při vytváření tenkých vrstev, zejména čistých kovů, jejich oxidů, nitridů či dalších sloučenin, na povrchu substrátu a týká se zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému při využití plazmochemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Řešení je uzpůsobeno zejména ve spojení s uplatněním technologií plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě hořící v režimu HCA (Hollow Cathode Arc).
Czech name
Zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému
Czech description
Technické řešení spadá do oblasti aplikace technologických postupů při vytváření tenkých vrstev, zejména čistých kovů, jejich oxidů, nitridů či dalších sloučenin, na povrchu substrátu a týká se zařízení k řízení depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému při využití plazmochemických reakcí v aktivní zóně generovaného výboje. Řešení je uzpůsobeno zejména ve spojení s uplatněním technologií plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě hořící v režimu HCA (Hollow Cathode Arc).
Classification
Type
F<sub>uzit</sub> - Utility model
CEP classification
BL - Plasma physics and discharge through gases
OECD FORD branch
—
Result continuities
Project
<a href="/en/project/TF01000084" target="_blank" >TF01000084: Research and development of advanced PVD/PECVD low-temperature plasma system for deposition of functional thin and thick TiO2 films for industrial applications.</a><br>
Continuities
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Others
Publication year
2016
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Data specific for result type
Patent/design ID
30018
Publisher
CZ001 -
Publisher name
Industrial Property Office
Place of publication
Prague
Publication country
CZ - CZECH REPUBLIC
Date of acceptance
—
Owner name
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Method of use
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence