Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm

Result code in IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F17%3A00486974" target="_blank" >RIV/68378271:_____/17:00486974 - isvavai.cz</a>
Result on the web
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Result language
čeština
Original language name
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
Original language description
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.n
Czech name
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
Czech description
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.n

Project
<a href="/en/project/TF03000025" target="_blank" >TF03000025: Research and development of new plasma-activated ALD system with a unique source of low-temperature plasma based on microwave surfatron and ECWR discharge.</a><br>
Continuities
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Publication year
2017
Confidentiality
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Internal product ID
FV1/FZU/2017
Numerical identification
—
Technical parameters
Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Economical parameters
Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
Application category by cost
—
Owner IČO
68378271
Owner name
Fyzikální ústav AV ČR, v.v
Owner country
CZ - CZECH REPUBLIC
Usage type
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Licence fee requirement
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Web page
—

Similar results(10)