All

What are you looking for?

All
Projects
Results
Organizations

Quick search

  • Projects supported by TA ČR
  • Excellent projects
  • Projects with the highest public support
  • Current projects

Smart search

  • That is how I find a specific +word
  • That is how I leave the -word out of the results
  • “That is how I can find the whole phrase”

Optimized surfatron plasma source for PE-ALD deposition system

The result's identifiers

  • Result code in IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F20%3A00537056" target="_blank" >RIV/68378271:_____/20:00537056 - isvavai.cz</a>

  • Result on the web

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternative languages

  • Result language

    čeština

  • Original language name

    Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém

  • Original language description

    V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu ve dvou uspořádáních nazývaný surfatron vhodný pro použití v MinimalFab systému. Charakterizace generovaného plazmatu prokázala, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma v rozsahu tlaků 1 Pa až 200 Pa. Dále pak lze provozovat plazmový zdroj v čistém inertním plynu, kyslíku, dusíku nebo jejich směsích.

  • Czech name

    Optimalizovaný surfatronový plazmový zdroj pro PE-ALD systém

  • Czech description

    V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu ve dvou uspořádáních nazývaný surfatron vhodný pro použití v MinimalFab systému. Charakterizace generovaného plazmatu prokázala, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma v rozsahu tlaků 1 Pa až 200 Pa. Dále pak lze provozovat plazmový zdroj v čistém inertním plynu, kyslíku, dusíku nebo jejich směsích.

Classification

  • Type

    G<sub>funk</sub> - Functional sample

  • CEP classification

  • OECD FORD branch

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Result continuities

  • Project

    <a href="/en/project/TM01000039" target="_blank" >TM01000039: Minimal Fab Design of the Atomic Layer Deposition System</a><br>

  • Continuities

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Others

  • Publication year

    2020

  • Confidentiality

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Data specific for result type

  • Internal product ID

    FVMF1/FZU/2020

  • Numerical identification

    FVMF1/FZU/2020

  • Technical parameters

    Vnější průměr křemenné trubičky: 6 mm, vnitřní průměr křemenné trubičky: 4 mm, výstupní tryska: kónická tryska, typ surfatron: mosazný rezonátor typu SAIREM s integrovanou přizpůsobovací jednotkou.

  • Economical parameters

    Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum

  • Application category by cost

  • Owner IČO

    68378271

  • Owner name

    Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

  • Owner country

    CZ - CZECH REPUBLIC

  • Usage type

    P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

  • Licence fee requirement

    Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek

  • Web page