Úprava elektronového litografu (ELito)

Název projektu anglicky
Electron litograph upgrade (ELito)
Anotace anglicky
The aim of the project is to develop a new electron lithograph control system, using which development and prototype production of microsystems will be performed later. The system consists of a lithographic coprocessor and application software. The project is of an applicative kind, but its results are necessary prerequisites for the fundamental research. In a joint laboratory of the applicant (FEI VUT) and joint applicant (LTPT AV ČR) stay two electron beam lithographs: a development prototype BS600 and a serial industrial lithograph BS601. The proposed project of lithograph control system upgrade promises significant improvement of some of the essential parameters i of the electron lithograph, improvement in the overall reliability, improved repeatability of exposition, much easier lithograph operating, transfer of a reasonable share of the routine exposition generation work from the operator to the expert system, wider choice of the input formats, and therefore also the number of possible fields o

Kategorie VaV
—
CEP - hlavní obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
CEP - vedlejší obor
—
CEP - další vedlejší obor
—
OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)
20201 - Electrical and electronic engineering

Hodnocení poskytovatelem
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Zlepšena funkčnost el. litografu. Údaje jsou odpovídající. Výsledek je přínosem pro mikroelektroniku, mikrosystémy, nanotechniku i pro výchovu studentů. Projekt má odpovídající publikační výstupy.

Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP/1999/GA0/GA09GA/V/6:6
Datum dodání záznamu
—

Podobné projekty(10)