Pulzní magnetronové naprašování pro depozici diamantu podobných uhlíkových vrstev s nízkým vnitřním pnutím

Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

Program

Standardní projekty

Veřejná soutěž

Standardní projekty 1 (SGA02002GA-ST)

Hlavní účastníci

Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses

Anotace anglicky

Pulsed Magnetron Sputtering to Deposition of Diamond-Like Carbon Films with Low Internal Stresses The high density plasma accelerates process of film synthesis and condensation due to enhanced concentration of high energetic reaction-able particles and ions within plasma. However, the overheating of cathode and substrate is an adverse consequence of it. To avoid this complication the technology evolution tends to use of the pulse instead of continuous mode of glow discharges. Pulsed magnetron sputteringis more controllable and universal process than arc evaporation and more productive than laser evaporation, which can also use pulse plasma. Regimes with extra-high pulse power or high pulse-current amplitude to average-current ratio are feasible duringa magnetron discharge. The current commercial sputtering plant Leybold will be provided with pulse-modulator and stronger DC power supply to reach the pulse-current amplitude up to 30 A. Study of magnetron discharge characteristics (time

Kategorie VaV

ZV - Základní výzkum

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

—

CEP - další vedlejší obor

—

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

V rámci projektu byl mezi stávající kontinuální DC zdroj a magnetron vakuové naprašovačky Leybold Z 550M vřazen pulzní modulátor sestávající z generátoru pulzů a elektrického obvodu s kapacitním kumulátorem energie a IGBT tranzistorem. V průběhu řešení b

Zahájení řešení

1. 1. 2002

Ukončení řešení

1. 1. 2004

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP/2005/GA0/GA05GA/U/N/B:7

Datum dodání záznamu

2. 6. 2008

Celkové uznané náklady

2 631 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

2 047 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

584 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč