Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 14 (SGA02011GA-ST)

  • Hlavní účastníci

    Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.<br>Univerzita Karlova / Matematicko-fyzikální fakulta<br>Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského AV ČR, v. v. i.<br>Vysoká škola báňská - Technická univerzita Ostrava / Fakulta bezpečnostního inženýrství

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    P108-11-1312

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Fabrication of thin films of UV-Vis-NIR transparent dielectrics by repetitive, capillary-discharge XUV laser ablation

  • Anotace anglicky

    Pulsed laser deposition (PLD) is well introduced technique for preparation of thin films. However, it has not been realized using a laser operating in the extremely ultraviolet (XUV) spectral range. Interaction of XUV light with matter exhibits several features, which makes it much different in respect to the effect of radiation incidence in ultraviolet, visible and infrared range. Photons of XUV radiation generated by repetition capillary laser of energy 26.4 eV are absorbed in the matter mainly via photoeffect. The bandgap width does not play any important role in the absorption of XUV radiation in the solid state matter. This is a novel unique utilization of XUV for PLD preparation of thin film of materials possessing negligible linear absorption in the UV-VIS-NIR spectral ranges, such as ionic crystals LiF, CaF2, MgF2. The part of this project is a comprehensive study of XUV laser plasma by means of optical emission and mass spectroscopy and mathematical modeling of plasma behavior. Structural, optical and fluorescence properties of the fabricated films will be analyzed.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • CEP - vedlejší obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • CEP - další vedlejší obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)<br>10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    XUV/rtg. lasery byly použity pro erozi různých materiálů jak ablačními, tak i desorpčními procesy. Byly deponovány tenké vrstvy erodovaného materiálu na substrátu. Byly modelovány ablační procesy pomocí XUV – ABLATOR. Řada publikací se však týká schváleného záměru projektu pouze okrajově. Publikační výstupy nasvědčují, že efektivita spolupráce pracovišť zapojených do řešení projektu byla malá.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2011

  • Ukončení řešení

    24. 11. 2016

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    1. 4. 2016

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP17-GA0-GA-U/03:1

  • Datum dodání záznamu

    28. 6. 2017

Finance

  • Celkové uznané náklady

    17 367 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    17 367 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč