Nové plazmové zdroje pro depozici vrstev a modifikaci povrchů
Cíle projektu
Cílem projektu je objasnění fyzikální podstaty činnosti tří nových magnetronových systémů pro rychlou depozici vrstev a pulzní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a nových vrstev Si-B-C-N s mimořádně vysokou teplotní stabilitou.
Klíčová slova
Novel plasma sourcesfilm deposition and surface modificationmagnetron sputteringhigh-power pulsed systemscarbon-based filmsoxides and nitrideshigh-temperature Si-B-C-N materials
Veřejná podpora
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Program
COST
Veřejná soutěž
COST 8 (SMSM2010OC5)
Hlavní účastníci
—
Druh soutěže
VS - Veřejná soutěž
Číslo smlouvy
1081/2011-320
Alternativní jazyk
Název projektu anglicky
Novel plasma sources for film deposition and surface modification
Anotace anglicky
The project is aimed at plasma technologies with a high application potential. Research will be mainly focused on fundamental aspects of magnetron operation in three novel high-power pulsed systems. They will be used for high-rate deposition of carbon-based films, various oxide and nitride films and for deposition of high-temperature Si-B-C-N films.
Vědní obory
Kategorie VaV
ZV - Základní výzkum
CEP - hlavní obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
CEP - vedlejší obor
JI - Kompositní materiály
CEP - další vedlejší obor
JJ - Ostatní materiály
OECD FORD - odpovídající obory
(dle převodníku)10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
20502 - Paper and wood
20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)
20505 - Composites (including laminates, reinforced plastics, cermets, combined natural and synthetic fibre fabrics; filled composites)
21001 - Nano-materials (production and properties)
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Hodnocení dokončeného projektu
Hodnocení poskytovatelem
V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)
Zhodnocení výsledků projektu
Nestacionární model byl použit k objasnění procesu vysokovýkonové pulzní magnetronové depozice. Dva pulzní magnetronové systémy byly využity k přípravě nevodivých oxidů a oxynitridů Ta-O-N, vysokoteplotních materiálů Si-B-C-N a nanostrukturních vrstev Z?
Termíny řešení
Zahájení řešení
1. 5. 2010
Ukončení řešení
31. 12. 2012
Poslední stav řešení
U - Ukončený projekt
Poslední uvolnění podpory
27. 2. 2012
Dodání dat do CEP
Důvěrnost údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Systémové označení dodávky dat
CEP13-MSM-OC-U/01:1
Datum dodání záznamu
28. 6. 2013
Finance
Celkové uznané náklady
990 tis. Kč
Výše podpory ze státního rozpočtu
990 tis. Kč
Ostatní veřejné zdroje financování
0 tis. Kč
Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.
0 tis. Kč
Základní informace
Uznané náklady
990 tis. Kč
Statní podpora
990 tis. Kč
100%
Poskytovatel
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEP
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Doba řešení
01. 05. 2010 - 31. 12. 2012