Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Residual stress and elastic anisotropy in the Ti-Al-(Si-)N and Cr-Al-(Si-)N nanocomposites deposited by cathodic arc evaporation

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F08%3A00206790" target="_blank" >RIV/00216208:11320/08:00206790 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Residual stress and elastic anisotropy in the Ti-Al-(Si-)N and Cr-Al-(Si-)N nanocomposites deposited by cathodic arc evaporation

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The elastic anisotropy of the Cr-Al-(Si-)N and Ti-Al-(Si-)N thin film nanocomposites with different aluminium and silicon contents deposited by the cathodic arc evaporation was investigated using complementary X-ray diffraction methods. Glancing angle X-ray diffraction (GAXRD) was employed to get the first information about the anisotropy of the elastic constants. The measurements done on an X-ray diffractometer equipped with an Eulerian cradle were used for calculation of the lattice strain and residual stress using the Crystallite Group Method and for determination of the preferred orientation of crystallites. In most samples, the degree of the elastic anisotropy decreased with increasing aluminium and silicon contents. Still, depending on the transition metal (Cr and/or Ti), different dependences of the elastic anisotropy on the aluminium and silicon contents were observed that could be related to the phase stability regions of the cubic phase in thin film nanocomposites.

  • Název v anglickém jazyce

    Residual stress and elastic anisotropy in the Ti-Al-(Si-)N and Cr-Al-(Si-)N nanocomposites deposited by cathodic arc evaporation

  • Popis výsledku anglicky

    The elastic anisotropy of the Cr-Al-(Si-)N and Ti-Al-(Si-)N thin film nanocomposites with different aluminium and silicon contents deposited by the cathodic arc evaporation was investigated using complementary X-ray diffraction methods. Glancing angle X-ray diffraction (GAXRD) was employed to get the first information about the anisotropy of the elastic constants. The measurements done on an X-ray diffractometer equipped with an Eulerian cradle were used for calculation of the lattice strain and residual stress using the Crystallite Group Method and for determination of the preferred orientation of crystallites. In most samples, the degree of the elastic anisotropy decreased with increasing aluminium and silicon contents. Still, depending on the transition metal (Cr and/or Ti), different dependences of the elastic anisotropy on the aluminium and silicon contents were observed that could be related to the phase stability regions of the cubic phase in thin film nanocomposites.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Zeitschrift für Kristallographie

  • ISSN

    0044-2968

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    27

  • Číslo periodika v rámci svazku

    27

  • Stát vydavatele periodika

    DE - Spolková republika Německo

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000264441800028

  • EID výsledku v databázi Scopus