Time and thickness dependence of crystallization of amorphous magnetron deposited TiO2 thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00206793" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00206793 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Time and thickness dependence of crystallization of amorphous magnetron deposited TiO2 thin films

Popis výsledku v původním jazyce

Titanium dioxide films have many remarkable properties, for example photocatalytic activity and hydrophilicity. However, these properties depend significantly on the crystallinity, phase composition and microstructure of the films. In this study, crystallization of amorphous films with different thickness (50-2000 nm) deposited on silicon substrates was investigated by XRD in-situ isochronal and isothermal annealing at different temperatures and compared with the post-annealing of both amorphous and nanocrystalline films. It was found that the crystallization depends strongly on the film thickness, especially below about 500 nm and it is slow for very thin films. The process can be well described by the Avrami equation modified by the initial time of crystallization. The parameters of the equation depend on the film thickness.

Název v anglickém jazyce

Time and thickness dependence of crystallization of amorphous magnetron deposited TiO2 thin films

Popis výsledku anglicky

Titanium dioxide films have many remarkable properties, for example photocatalytic activity and hydrophilicity. However, these properties depend significantly on the crystallinity, phase composition and microstructure of the films. In this study, crystallization of amorphous films with different thickness (50-2000 nm) deposited on silicon substrates was investigated by XRD in-situ isochronal and isothermal annealing at different temperatures and compared with the post-annealing of both amorphous and nanocrystalline films. It was found that the crystallization depends strongly on the film thickness, especially below about 500 nm and it is slow for very thin films. The process can be well described by the Avrami equation modified by the initial time of crystallization. The parameters of the equation depend on the film thickness.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Zeitschrift für Kristallographie

ISSN

0044-2968

e-ISSN

—

Svazek periodika

Neuveden

Číslo periodika v rámci svazku

neuveden

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000271325700003

EID výsledku v databázi Scopus

—