Sn-CeO2 thin films prepared by rf magnetron sputtering: XPS and SIMS study
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00206886" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00206886 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216305:26210/09:PU86162
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Sn-CeO2 thin films prepared by rf magnetron sputtering: XPS and SIMS study
Popis výsledku v původním jazyce
The purpose of this study was to contribute to the elucidation of the Sn-Ce interaction mechanism in mixed oxides prepared by simultaneous magnetron sputtering of ceria and tin. Non-reactive rf magnetron sputtering was used to deposit CeO2 and Sn-CeO2 thin films on Si(1 0 0) wafer substrates. The prepared samples were investigated by secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using a conventional laboratory X-ray source
Název v anglickém jazyce
Sn-CeO2 thin films prepared by rf magnetron sputtering: XPS and SIMS study
Popis výsledku anglicky
The purpose of this study was to contribute to the elucidation of the Sn-Ce interaction mechanism in mixed oxides prepared by simultaneous magnetron sputtering of ceria and tin. Non-reactive rf magnetron sputtering was used to deposit CeO2 and Sn-CeO2 thin films on Si(1 0 0) wafer substrates. The prepared samples were investigated by secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) using a conventional laboratory X-ray source
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GD202%2F09%2FH041" target="_blank" >GD202/09/H041: Fyzika nanostruktur</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Applied Surface Science
ISSN
0169-4332
e-ISSN
—
Svazek periodika
255
Číslo periodika v rámci svazku
13-14
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000264925400040
EID výsledku v databázi Scopus
—