Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

The interface structure and band alignment at alumina/Cu(Al) alloy interfaces-Influence of the crystallinity of alumina films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F10%3A10070097" target="_blank" >RIV/00216208:11320/10:10070097 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    The interface structure and band alignment at alumina/Cu(Al) alloy interfaces-Influence of the crystallinity of alumina films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Both epitaxial and amorphous ultra-thin alumina films were grown on a Cu-9 at.%Al(1 1 1) substrate by selective oxidation of Al in the alloy in ultra high vacuum. The crystallinity of the alumina films was controlled by oxidation temperature. The photoelectron spectra of Al 2p, O 1s and valence band were measured in-situ during oxidation. The influence of the crystallinity on the interface structure between the alumina films and the substrate was discussed by analyzing the Al 2p spectra composed of multiple peaks. The energy difference between the Fermi level of the substrate and the valence band maximum of the alumina films (band offset) was derived from the valence band spectra. The energy band alignment at the interface between each of the two alumina films and the substrate was revealed by combining the binding energy values of the core levels with the band offset values. The influence of the alumina crystallinity on the band alignment was discussed.

  • Název v anglickém jazyce

    The interface structure and band alignment at alumina/Cu(Al) alloy interfaces-Influence of the crystallinity of alumina films

  • Popis výsledku anglicky

    Both epitaxial and amorphous ultra-thin alumina films were grown on a Cu-9 at.%Al(1 1 1) substrate by selective oxidation of Al in the alloy in ultra high vacuum. The crystallinity of the alumina films was controlled by oxidation temperature. The photoelectron spectra of Al 2p, O 1s and valence band were measured in-situ during oxidation. The influence of the crystallinity on the interface structure between the alumina films and the substrate was discussed by analyzing the Al 2p spectra composed of multiple peaks. The energy difference between the Fermi level of the substrate and the valence band maximum of the alumina films (band offset) was derived from the valence band spectra. The energy band alignment at the interface between each of the two alumina films and the substrate was revealed by combining the binding energy values of the core levels with the band offset values. The influence of the alumina crystallinity on the band alignment was discussed.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/LC06058" target="_blank" >LC06058: Centrum studia materiálů s využitím synchrotronového záření.</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Surface Science

  • ISSN

    0169-4332

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    256

  • Číslo periodika v rámci svazku

    10

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000275233900009

  • EID výsledku v databázi Scopus