Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F10%3A10071481" target="_blank" >RIV/00216208:11320/10:10071481 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/10:00358730
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
The paper is focused on a study of formation of TiOxNy thin films prepared by pulsed magnetron sputtering of metallic Ti target.
Název v anglickém jazyce
Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
The paper is focused on a study of formation of TiOxNy thin films prepared by pulsed magnetron sputtering of metallic Ti target.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika
Journal of Physics D - Applied Physics
ISSN
0022-3727
e-ISSN
—
Svazek periodika
43
Číslo periodika v rámci svazku
28
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000279318600010
EID výsledku v databázi Scopus
—

Popis výsledku