isvav_result

publication_year

occurrences__organization__code

solver__id__sc2

result_type__code

Druh výsledku je určen klasifikací RIV, která je oficálním číselníkem IS VaVaI. Stručný přehled výsledků dle RIV je uveden <a href="https://www.vyzkum.cz/FrontClanek.aspx?idsekce=1395" target="_blank" >zde</a>.

language__code

Jazyk výsledku udáva původní jazyk, ve kterém byl daný výsledek vytvořen. Kompletní seznam jazyků ve kterém je možno výsledek do RIV předložit je <a href="https://www.vyzkum.cz/FrontClanek.aspx?idsekce=1397" target="_blank" >zde</a>.

cep__code

ford__code

_group_id67

occurrences__funder__code

Dodavatel dat je poskytovatel podpory na VaV, s jejíž pomocí bylo výsledku dosaženo.

project__programme__code

x_range_count_solvers

project__id

Co hledáte?

Rychlé hledání

Chytré vyhledávání

Filtry

Effect of the target power density on high power impulse magnetron sputtering of copper

A phenomenological equilibrium model applicable to high-power pulsed magnetron sputtering

Deposition of SiC thin films using pulsed sputtering of a hollow cathode

Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering

A non-stationary model for high power impulse magnetron sputtering discharges

Deposition of PZT thin film onto copper-coated polymer films by mean of pulsed-DC and RF-reactive sputtering

Study of titanium - carbon gradient layers grown by combination of laser deposition and magnetron sputtering.

Pulsed dc magnetron discharge for high-rate sputtering of this films

Sputtering and pulsed laser deposition for near and mid-infrared applications: A comparative study of Ge25Sb10S65 and Ge25Sb10Se65 amorphous thin films.

Deposition of thin titanium-copper films with antimicrobial effect by advanced magnetron sputtering methods