Etching behavior of GaAs, GaSb, InAs, and InSb in aqueous H2O2-HBr-ethylene glycol solutions
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10127058" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10127058 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://download.springer.com/static/pdf/862/art%253A10.1134%252FS002016851208016X.pdf?auth66=1362218636_06c9e8467c04a180311c23ed41afa3ac&ext=.pdf" target="_blank" >http://download.springer.com/static/pdf/862/art%253A10.1134%252FS002016851208016X.pdf?auth66=1362218636_06c9e8467c04a180311c23ed41afa3ac&ext=.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1134/S002016851208016X" target="_blank" >10.1134/S002016851208016X</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Etching behavior of GaAs, GaSb, InAs, and InSb in aqueous H2O2-HBr-ethylene glycol solutions
Popis výsledku v původním jazyce
The chemical interaction of GaAs, GaSb, InAs, and InSb single crystals with H2O2-HBr-ethylene glycol bromine-releasing etchants has been studied under reproducible hydrodynamic conditions. We have located boundaries between regions of polishing and nonpolishing solutions, assessed the surface condition of the crystals using microstructural analysis and surface profiling, and optimized the compositions of the polishing solutions and dynamic chemical polishing conditions for the materials studied.
Název v anglickém jazyce
Etching behavior of GaAs, GaSb, InAs, and InSb in aqueous H2O2-HBr-ethylene glycol solutions
Popis výsledku anglicky
The chemical interaction of GaAs, GaSb, InAs, and InSb single crystals with H2O2-HBr-ethylene glycol bromine-releasing etchants has been studied under reproducible hydrodynamic conditions. We have located boundaries between regions of polishing and nonpolishing solutions, assessed the surface condition of the crystals using microstructural analysis and surface profiling, and optimized the compositions of the polishing solutions and dynamic chemical polishing conditions for the materials studied.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CA - Anorganická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP102%2F10%2F0148" target="_blank" >GAP102/10/0148: Vliv inkluzí Te na účinnost radiačních detektorů CdTe a CdZnTe</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Inorganic Materials
ISSN
0020-1685
e-ISSN
—
Svazek periodika
48
Číslo periodika v rámci svazku
9
Stát vydavatele periodika
RU - Ruská federace
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
867-871
Kód UT WoS článku
000307562400002
EID výsledku v databázi Scopus
—