Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

RHEED study of the growth of cerium oxide on Cu(111)

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10130895" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10130895 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.06.014" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.06.014</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.06.014" target="_blank" >10.1016/j.apsusc.2012.06.014</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    RHEED study of the growth of cerium oxide on Cu(111)

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This article reports RHEED and XPS studies of the growth of epitaxial cerium oxide layers on (1 1 1) surface of copper single-crystal. The layers were prepared by reactive evaporation of cerium in 5 x 10(-5) Pa of oxygen at different substrate temperatures. Cerium oxide layers exhibited (1 1 1) crystallographic plane parallel to the substrate surface. The model of CeO2(1 1 1)/Cu(1 1 1) epitaxial system is proposed. Morphological parameters of cerium oxide layer were deduced from RHEED diffraction patterns. It was found that average island size increased with the substrate temperature during the deposition. The obtained results are in agreement with the similar studies performed by STM. An experimental arrangement of the RHEED technique permitted to measure an evolution of lattice parameter of cerium oxide during the growth. A contraction of crystal lattice was observed especially in early stages of the growth. XPS measurements indicated the growth of stoichiometric cerium oxide.

  • Název v anglickém jazyce

    RHEED study of the growth of cerium oxide on Cu(111)

  • Popis výsledku anglicky

    This article reports RHEED and XPS studies of the growth of epitaxial cerium oxide layers on (1 1 1) surface of copper single-crystal. The layers were prepared by reactive evaporation of cerium in 5 x 10(-5) Pa of oxygen at different substrate temperatures. Cerium oxide layers exhibited (1 1 1) crystallographic plane parallel to the substrate surface. The model of CeO2(1 1 1)/Cu(1 1 1) epitaxial system is proposed. Morphological parameters of cerium oxide layer were deduced from RHEED diffraction patterns. It was found that average island size increased with the substrate temperature during the deposition. The obtained results are in agreement with the similar studies performed by STM. An experimental arrangement of the RHEED technique permitted to measure an evolution of lattice parameter of cerium oxide during the growth. A contraction of crystal lattice was observed especially in early stages of the growth. XPS measurements indicated the growth of stoichiometric cerium oxide.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Surface Science

  • ISSN

    0169-4332

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    259

  • Číslo periodika v rámci svazku

    1

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    34-38

  • Kód UT WoS článku

    000310436900006

  • EID výsledku v databázi Scopus