Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Investigation of Growth Mechanism of Thin Sputtered Cerium Oxide Films on Carbon Substrates

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F14%3A10288987" target="_blank" >RIV/00216208:11320/14:10288987 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1166/sam.2014.1905" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1166/sam.2014.1905</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1166/sam.2014.1905" target="_blank" >10.1166/sam.2014.1905</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Investigation of Growth Mechanism of Thin Sputtered Cerium Oxide Films on Carbon Substrates

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this study we present a method of fabrication of nanoporous and nanostructured layers of cerium oxide on carbon substrates via radio frequency (rf) magnetron sputtering which is a technique suitable for commercial use in contrary to other techniques commonly used for preparation of nanostructured catalysts. Roughening of deposited layers is shown to be dependent on sputtering conditions and the amount of deposited material. Optimization of these parameters results in growth of mushroom-like structures consisting of carbon base with a mantle of crystalline cerium compounds. With higher amount of deposited cerium oxide the structures start to be interconnected at their tops due to coalescence of cerium based particles forming characteristic ridged surface observable from a topographic view. Amorphous carbon layers sputtered on a silicon wafer were used as a substrate for further analysis. Measurements of the final thicknesses of cerium oxide/amorphous carbon bi-layers point to the fac

  • Název v anglickém jazyce

    Investigation of Growth Mechanism of Thin Sputtered Cerium Oxide Films on Carbon Substrates

  • Popis výsledku anglicky

    In this study we present a method of fabrication of nanoporous and nanostructured layers of cerium oxide on carbon substrates via radio frequency (rf) magnetron sputtering which is a technique suitable for commercial use in contrary to other techniques commonly used for preparation of nanostructured catalysts. Roughening of deposited layers is shown to be dependent on sputtering conditions and the amount of deposited material. Optimization of these parameters results in growth of mushroom-like structures consisting of carbon base with a mantle of crystalline cerium compounds. With higher amount of deposited cerium oxide the structures start to be interconnected at their tops due to coalescence of cerium based particles forming characteristic ridged surface observable from a topographic view. Amorphous carbon layers sputtered on a silicon wafer were used as a substrate for further analysis. Measurements of the final thicknesses of cerium oxide/amorphous carbon bi-layers point to the fac

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA13-10396S" target="_blank" >GA13-10396S: Nové materiály pro planární palivové články</a><br>

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2014

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Science of Advanced Materials

  • ISSN

    1947-2935

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    6

  • Číslo periodika v rámci svazku

    6

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    1278-1285

  • Kód UT WoS článku

    000337268100026

  • EID výsledku v databázi Scopus