Low energy ion scattering as a depth profiling tool for thin layers - Case of bromine methanol etched CdTe

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F18%3A10386869" target="_blank" >RIV/00216208:11320/18:10386869 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216305:26220/18:PU127488

Výsledek na webu

<a href="https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.014" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.014</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2018.03.014" target="_blank" >10.1016/j.vacuum.2018.03.014</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Low energy ion scattering as a depth profiling tool for thin layers - Case of bromine methanol etched CdTe

Popis výsledku v původním jazyce

We have investigated the properties of the Te-rich surface layer formed after a bromine-methanol etch of CdTe single crystal by two methods: Angle Resolved X-Ray Photoelectron Spectroscopy (ARXPS) and Low Energy Ion Scattering (LEIS) in the Dynamic mode. We compare the acquisition time of each method. The results showed similar, exponential decay of the Te/Cd ratio to a depth of 6 nm. At the depths higher than 6 nm, the substrate becomes stoichiometric. Dynamic LEIS provided more detailed information about composition at depths lower than the probing depth of ARXPS. The Dynamic LEIS measurements suggest that the composition of the outermost layer of CdTe after bromine-methanol etching consists of CdTe4.

Název v anglickém jazyce

Low energy ion scattering as a depth profiling tool for thin layers - Case of bromine methanol etched CdTe

Popis výsledku anglicky

We have investigated the properties of the Te-rich surface layer formed after a bromine-methanol etch of CdTe single crystal by two methods: Angle Resolved X-Ray Photoelectron Spectroscopy (ARXPS) and Low Energy Ion Scattering (LEIS) in the Dynamic mode. We compare the acquisition time of each method. The results showed similar, exponential decay of the Te/Cd ratio to a depth of 6 nm. At the depths higher than 6 nm, the substrate becomes stoichiometric. Dynamic LEIS provided more detailed information about composition at depths lower than the probing depth of ARXPS. The Dynamic LEIS measurements suggest that the composition of the outermost layer of CdTe after bromine-methanol etching consists of CdTe4.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Vacuum

ISSN

0042-207X

e-ISSN

—

Svazek periodika

152

Číslo periodika v rámci svazku

červen

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

138-144

Kód UT WoS článku

000432499100021

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85044144267