Effect of magnetic field on the formation of Cu nanoparticles during magnetron sputtering in the gas aggregation cluster source

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F19%3A10405899" target="_blank" >RIV/00216208:11320/19:10405899 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=VApIJhQKdX" target="_blank" >https://verso.is.cuni.cz/pub/verso.fpl?fname=obd_publikace_handle&handle=VApIJhQKdX</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/ppap.201900133" target="_blank" >10.1002/ppap.201900133</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Effect of magnetic field on the formation of Cu nanoparticles during magnetron sputtering in the gas aggregation cluster source

Popis výsledku v původním jazyce

Reliable production of nanoparticles (NPs) by magnetron sputtering in a gas aggregation source (GAS) is of great interest because of many potential applications. The size, shape, or structure of NPs can be tuned by the operational parameters of the GAS. In this study, fabrication of copper (Cu) NPs is investigated dependent on the magnetron magnetic field (MF)-a not much studied parameter. Decrease of the MF from 83 to 35 mT results in changes in the shape and size distribution of the NPs. MF also strongly affects the NPs deposition rate (DR). Electromagnetic trapping of the NPs in the vicinity of the magnetron target is proposed to be responsible for the changes in DR and polydispersity. The highest DR was reached at 45 mT.

Název v anglickém jazyce

Effect of magnetic field on the formation of Cu nanoparticles during magnetron sputtering in the gas aggregation cluster source

Popis výsledku anglicky

Reliable production of nanoparticles (NPs) by magnetron sputtering in a gas aggregation source (GAS) is of great interest because of many potential applications. The size, shape, or structure of NPs can be tuned by the operational parameters of the GAS. In this study, fabrication of copper (Cu) NPs is investigated dependent on the magnetron magnetic field (MF)-a not much studied parameter. Decrease of the MF from 83 to 35 mT results in changes in the shape and size distribution of the NPs. MF also strongly affects the NPs deposition rate (DR). Electromagnetic trapping of the NPs in the vicinity of the magnetron target is proposed to be responsible for the changes in DR and polydispersity. The highest DR was reached at 45 mT.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2019

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Plasma Processes and Polymers

ISSN

1612-8850

e-ISSN

—

Svazek periodika

16

Číslo periodika v rámci svazku

11

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

1900133

Kód UT WoS článku

000481228900001

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85070671408