Studium uhlíkových vrstem na křemíkových vrstvách

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00013692" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00013692 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Study of carbon films on silicon substrate

Popis výsledku v původním jazyce

Carbon based films on silicon substrates have been studied by high resolution FE SEM equipped by an EDS analyzer. The first type are carbon nanotube (CNT) films prepared on Si/SiO2 substrates with Ni or Fe layers by radiofrequency plasma chemical vapor deposition. Dependence of nanotube films properties on Ni and Fe thickness and deposition conditions have been studied. The second type of films discussed are microcrystalline and nanocrystalline diamond films grown on pre-treated Si substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond films was studied.

Název v anglickém jazyce

Study of carbon films on silicon substrate

Popis výsledku anglicky

Carbon based films on silicon substrates have been studied by high resolution FE SEM equipped by an EDS analyzer. The first type are carbon nanotube (CNT) films prepared on Si/SiO2 substrates with Ni or Fe layers by radiofrequency plasma chemical vapor deposition. Dependence of nanotube films properties on Ni and Fe thickness and deposition conditions have been studied. The second type of films discussed are microcrystalline and nanocrystalline diamond films grown on pre-treated Si substrates by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD). The pre-treatment was varied and its effect on diamond films was studied.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Material Science Forum

ISSN

0255-5476

e-ISSN

—

Svazek periodika

482

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

203-206

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—