Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00025189" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00025189 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Amorphous hydrocarbon thin films are still very attractive materials for many scientists. They are used in wide range of applications like optical devices, integrated digital circuits, micro-electromechanical devices, biomedical coatings, etc. One of thecommon techniques of preparation of such films is the plasma enhanced chemical vapor deposition. The properties of resulted thin films are strongly dependent on deposition parameters. Usually, continuous mode of operation is used in the deposition process, but running the deposition in pulsed mode offers another possibility to vary the material properties. One of the aspects of deposited thin film is the surface morphology, which can play a crucial role in industrial applications of the films. The aimof this work is therefore the investigation of surface parameters like roughness and autocorrelation length of thin films.

  • Název v anglickém jazyce

    Surface morphology of amorphous hydrocarbon thin films deposited in pulsed radiofrequency discharge

  • Popis výsledku anglicky

    Amorphous hydrocarbon thin films are still very attractive materials for many scientists. They are used in wide range of applications like optical devices, integrated digital circuits, micro-electromechanical devices, biomedical coatings, etc. One of thecommon techniques of preparation of such films is the plasma enhanced chemical vapor deposition. The properties of resulted thin films are strongly dependent on deposition parameters. Usually, continuous mode of operation is used in the deposition process, but running the deposition in pulsed mode offers another possibility to vary the material properties. One of the aspects of deposited thin film is the surface morphology, which can play a crucial role in industrial applications of the films. The aimof this work is therefore the investigation of surface parameters like roughness and autocorrelation length of thin films.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA202%2F07%2F1669" target="_blank" >GA202/07/1669: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2008

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů