Utilization of synchrotron radiation for in-situ diffusion studies
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F08%3A00027765" target="_blank" >RIV/00216224:14310/08:00027765 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Utilization of synchrotron radiation for in-situ diffusion studies
Popis výsledku v původním jazyce
We have investigated SiGe/Si and SiGe/Ge multilayers annealed in-situ at temperatures in the range 680-800 C by x-ray diffraction.
Název v anglickém jazyce
Utilization of synchrotron radiation for in-situ diffusion studies
Popis výsledku anglicky
We have investigated SiGe/Si and SiGe/Ge multilayers annealed in-situ at temperatures in the range 680-800 C by x-ray diffraction.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů