Oxygen Precipitation in CZ Si Wafers after High Temperature Pre-annealing
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00046555" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00046555 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Oxygen Precipitation in CZ Si Wafers after High Temperature Pre-annealing
Popis výsledku v původním jazyce
In this work we study two stage and three stage annealing processes with application of Tabula rasa. The evolution of precipitates at various phases during annealing process for various temperatures was obtained from series of experimental techniques.
Název v anglickém jazyce
Oxygen Precipitation in CZ Si Wafers after High Temperature Pre-annealing
Popis výsledku anglicky
In this work we study two stage and three stage annealing processes with application of Tabula rasa. The evolution of precipitates at various phases during annealing process for various temperatures was obtained from series of experimental techniques.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F09%2F1013" target="_blank" >GA202/09/1013: Nukleace a růst kyslíkových precipitátů v křemíku</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů