X-ray scattering study of oxide precipitates in Cz-Si
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00046556" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00046556 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
X-ray scattering study of oxide precipitates in Cz-Si
Popis výsledku v původním jazyce
Two x-ray diffraction methods were used for characterization of the oxide precipitates in Czochralski silicon series of samples. The maping of the diffuse scattering around reciprocal lattice point in Bragg geometry and the simultaneous measurement of the diffracted and transmitted beam intensity in the Laue diffraction geometry.
Název v anglickém jazyce
X-ray scattering study of oxide precipitates in Cz-Si
Popis výsledku anglicky
Two x-ray diffraction methods were used for characterization of the oxide precipitates in Czochralski silicon series of samples. The maping of the diffuse scattering around reciprocal lattice point in Bragg geometry and the simultaneous measurement of the diffracted and transmitted beam intensity in the Laue diffraction geometry.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů