Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

CHEMICAL AND PHYSICAL EVALUATION OF HYDROPHOBIC pp-HMDSO LAYERS DEPOSITED BY PLASMA POLYMERIZATION AT ATMOSPHERIC PRESSURE

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F12%3A00064656" target="_blank" >RIV/00216224:14310/12:00064656 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    CHEMICAL AND PHYSICAL EVALUATION OF HYDROPHOBIC pp-HMDSO LAYERS DEPOSITED BY PLASMA POLYMERIZATION AT ATMOSPHERIC PRESSURE

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This work deals with plasma polymerization deposition of hydrophobic layers onto glass substrates at atmospheric pressure. The hexamethyldisiloxane (HMDSO)organosilicon monomer was used as precursor for plasma polymerization in nitrogen working gas. Theso-called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge was used as a source of non-equilibrium non-thermal plasma. The pp-HMDSO thin films were studied by the means of SEM,AFM, FTIR, XPS and SIMS measurements. Our research revealed that smooth, polymer-like, hydrophobic and transparent in visible range thin films were deposited on the glass substrates. The results indicate that DCSBD discharge can be used for thin films deposition by the means of plasma polymerization process at atmospheric pressure.

  • Název v anglickém jazyce

    CHEMICAL AND PHYSICAL EVALUATION OF HYDROPHOBIC pp-HMDSO LAYERS DEPOSITED BY PLASMA POLYMERIZATION AT ATMOSPHERIC PRESSURE

  • Popis výsledku anglicky

    This work deals with plasma polymerization deposition of hydrophobic layers onto glass substrates at atmospheric pressure. The hexamethyldisiloxane (HMDSO)organosilicon monomer was used as precursor for plasma polymerization in nitrogen working gas. Theso-called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge was used as a source of non-equilibrium non-thermal plasma. The pp-HMDSO thin films were studied by the means of SEM,AFM, FTIR, XPS and SIMS measurements. Our research revealed that smooth, polymer-like, hydrophobic and transparent in visible range thin films were deposited on the glass substrates. The results indicate that DCSBD discharge can be used for thin films deposition by the means of plasma polymerization process at atmospheric pressure.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ED2.1.00%2F03.0086" target="_blank" >ED2.1.00/03.0086: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    CHEMICKÉ LISTY

  • ISSN

    0009-2770

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    106

  • Číslo periodika v rámci svazku

    S

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    1450-1454

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus