Depozice tenkých vrstev v atmosférickém doutnavém výboji na skleněný substrát.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F07%3A00020681" target="_blank" >RIV/00216224:14310/07:00020681 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Deposition of thin films on glass substrate in atmospheric pressure glow discharge

Popis výsledku v původním jazyce

The atmospheric pressure glow discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The discharge was burning in pure nitrogen used as a carrier gas with a small admixture of organosilicon compound (hexamethyldisiloxane HMDSO) whichwas used as a monomer. Thin films was deposited on the glass substrate. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. Electrical measurements were used to distinguish between glow and filamentary regime. The surface atomic composition was measured by means of Xray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR). Mechanical properties of deposited films were characterised by depth sensing indentation technique. The films were transparent in visible range. The comparison with thin films deposited on the silicon substrate is provided.

Název v anglickém jazyce

Deposition of thin films on glass substrate in atmospheric pressure glow discharge

Popis výsledku anglicky

The atmospheric pressure glow discharge was used for the deposition of thin organosilicon polymer films. The discharge was burning in pure nitrogen used as a carrier gas with a small admixture of organosilicon compound (hexamethyldisiloxane HMDSO) whichwas used as a monomer. Thin films was deposited on the glass substrate. The temperature of the substrate was elevated up to 120 C to obtain harder thin films. Electrical measurements were used to distinguish between glow and filamentary regime. The surface atomic composition was measured by means of Xray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR). Mechanical properties of deposited films were characterised by depth sensing indentation technique. The films were transparent in visible range. The comparison with thin films deposited on the silicon substrate is provided.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F06%2F1473" target="_blank" >GA202/06/1473: Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2007

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Book of Contributed Papers of The 3rd Seminar on New Trends in Plasma Physics and Solid State Physics

ISBN

978-80-89186-24-2

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

144-147

Název nakladatele

Library and Publishing Centre in collaboration with Department of Experimental Physics, Comenius University, Bratislava, Slovakia; Union of Slovak Mathematicians and Physicists, Bratislava, Slovakia

Místo vydání

Bratislava, Slovensko

Místo konání akce

Bratislava, Slovakia

Datum konání akce

4. 10. 2007

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—