Deposition of Zn-containing films using atmospheric pressure plasma jet
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F14%3A00079196" target="_blank" >RIV/00216224:14310/14:00079196 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1515/chem-2015-0020" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1515/chem-2015-0020</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1515/chem-2015-0020" target="_blank" >10.1515/chem-2015-0020</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of Zn-containing films using atmospheric pressure plasma jet
Popis výsledku v původním jazyce
The aim of this work was to deposit Zn-containing films on Si substrates using the commercial atmospheric pressure plasma jet ?kINPen?09?. In preliminary experiments Zn-containing films were deposited on the substrates immersed in water solutions of Zn(NO3)2.6H2O salt. The surface composition of deposited films was analyzed by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) technique while the bulk composition was studied by means of XRD (X-ray diffraction) mesurements. The film thickness was measured by a profilometer. We have found out, that the concentration of the zinc nitrate solution as well as changes in the deposition time result in a large fluctuation of the deposited film thickness. However, the successful deposition of the Zn-containing films on theSi substrate was definitely confirmed
Název v anglickém jazyce
Deposition of Zn-containing films using atmospheric pressure plasma jet
Popis výsledku anglicky
The aim of this work was to deposit Zn-containing films on Si substrates using the commercial atmospheric pressure plasma jet ?kINPen?09?. In preliminary experiments Zn-containing films were deposited on the substrates immersed in water solutions of Zn(NO3)2.6H2O salt. The surface composition of deposited films was analyzed by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) technique while the bulk composition was studied by means of XRD (X-ray diffraction) mesurements. The film thickness was measured by a profilometer. We have found out, that the concentration of the zinc nitrate solution as well as changes in the deposition time result in a large fluctuation of the deposited film thickness. However, the successful deposition of the Zn-containing films on theSi substrate was definitely confirmed
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2014
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Open chemistry
ISSN
2391-5420
e-ISSN
—
Svazek periodika
13/2014
Číslo periodika v rámci svazku
13(1)
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
198-203
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—