Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F15%3A00080435" target="_blank" >RIV/00216224:14310/15:00080435 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108" target="_blank" >10.1364/AO.54.009108</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A dispersion model capable of expressing the dielectric response of a broad class of optical materials in a wide spectral range from far IR to vacuum UV is described in detail. The application of this Universal Dispersion Model to a specific material isdemonstrated using the ellipsometric and spectrophotometric characterization of a hafnia film prepared by vacuum evaporation on silicon substrate. The characterization utilizes simultaneous processing of data from multiple techniques and instruments covering the wide spectral range and includes the characterization of roughness, non-uniformity, transition layer and native oxide layer on the back of the substrate. It is shown how the combination of measurements in light reflected from both side of the sample and transmitted light allows the separation of weak absorption in film and substrate.

  • Název v anglickém jazyce

    Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia

  • Popis výsledku anglicky

    A dispersion model capable of expressing the dielectric response of a broad class of optical materials in a wide spectral range from far IR to vacuum UV is described in detail. The application of this Universal Dispersion Model to a specific material isdemonstrated using the ellipsometric and spectrophotometric characterization of a hafnia film prepared by vacuum evaporation on silicon substrate. The characterization utilizes simultaneous processing of data from multiple techniques and instruments covering the wide spectral range and includes the characterization of roughness, non-uniformity, transition layer and native oxide layer on the back of the substrate. It is shown how the combination of measurements in light reflected from both side of the sample and transmitted light allows the separation of weak absorption in film and substrate.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Applied Optics

  • ISSN

    1559-128X

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    54

  • Číslo periodika v rámci svazku

    31

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    12

  • Strana od-do

    9108-9112

  • Kód UT WoS článku

    000364455800043

  • EID výsledku v databázi Scopus