Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F15%3A00080435" target="_blank" >RIV/00216224:14310/15:00080435 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/AO.54.009108" target="_blank" >10.1364/AO.54.009108</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia
Popis výsledku v původním jazyce
A dispersion model capable of expressing the dielectric response of a broad class of optical materials in a wide spectral range from far IR to vacuum UV is described in detail. The application of this Universal Dispersion Model to a specific material isdemonstrated using the ellipsometric and spectrophotometric characterization of a hafnia film prepared by vacuum evaporation on silicon substrate. The characterization utilizes simultaneous processing of data from multiple techniques and instruments covering the wide spectral range and includes the characterization of roughness, non-uniformity, transition layer and native oxide layer on the back of the substrate. It is shown how the combination of measurements in light reflected from both side of the sample and transmitted light allows the separation of weak absorption in film and substrate.
Název v anglickém jazyce
Universal dispersion model for characterization of optical thin films over wide spectral range: Application to hafnia
Popis výsledku anglicky
A dispersion model capable of expressing the dielectric response of a broad class of optical materials in a wide spectral range from far IR to vacuum UV is described in detail. The application of this Universal Dispersion Model to a specific material isdemonstrated using the ellipsometric and spectrophotometric characterization of a hafnia film prepared by vacuum evaporation on silicon substrate. The characterization utilizes simultaneous processing of data from multiple techniques and instruments covering the wide spectral range and includes the characterization of roughness, non-uniformity, transition layer and native oxide layer on the back of the substrate. It is shown how the combination of measurements in light reflected from both side of the sample and transmitted light allows the separation of weak absorption in film and substrate.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2015
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Applied Optics
ISSN
1559-128X
e-ISSN
—
Svazek periodika
54
Číslo periodika v rámci svazku
31
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
12
Strana od-do
9108-9112
Kód UT WoS článku
000364455800043
EID výsledku v databázi Scopus
—