Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F18%3A00103779" target="_blank" >RIV/00216224:14310/18:00103779 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The hysteresis curve in R-HiPIMS generally exhibits a narrower shape compared to dcMS, or it can even be entirely suppressed, which is beneficial for high-rate deposition of stoichiometric compound films. However, the main effect behind the hysteresis suppression is not yet completely understood. We report on evolutions of titanium atom, and ion ground state densities in R-HiPIMS discharges in oxygen for constant mean power and pulse duration, when varying the repetition frequency.

  • Název v anglickém jazyce

    Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    The hysteresis curve in R-HiPIMS generally exhibits a narrower shape compared to dcMS, or it can even be entirely suppressed, which is beneficial for high-rate deposition of stoichiometric compound films. However, the main effect behind the hysteresis suppression is not yet completely understood. We report on evolutions of titanium atom, and ion ground state densities in R-HiPIMS discharges in oxygen for constant mean power and pulse duration, when varying the repetition frequency.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/LO1411" target="_blank" >LO1411: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2018

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů