Thermal stability of Ti/Ni multilayer Thin films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F21%3A00118928" target="_blank" >RIV/00216224:14310/21:00118928 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68081723:_____/21:00549491 RIV/68081731:_____/21:00549491
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.37904/nanocon.2020.3776" target="_blank" >https://doi.org/10.37904/nanocon.2020.3776</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.37904/nanocon.2020.3776" target="_blank" >10.37904/nanocon.2020.3776</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Thermal stability of Ti/Ni multilayer Thin films
Popis výsledku v původním jazyce
In this work, thermal stability and mechanical properties of Ti/Ni multilayer thin films were studied. The multilayer thin films were synthesised by alternately depositing Ti and Ni layers using magnetron sputtering. The thickness of constituent layers of Ti and Ni varied from 1.7 nm to 10 nm, and one coating was deposited by simultaneous sputtering of both targets. Single crystalline silicon was used as a substrate. The effects of thermal treatment on the mechanical properties were studied using nanoindentation and discussed in relation to microstructure evaluated by X-ray diffraction. Annealing was carried out under low-pressure conditions for 2 hours in the range of 100–800°C.
Název v anglickém jazyce
Thermal stability of Ti/Ni multilayer Thin films
Popis výsledku anglicky
In this work, thermal stability and mechanical properties of Ti/Ni multilayer thin films were studied. The multilayer thin films were synthesised by alternately depositing Ti and Ni layers using magnetron sputtering. The thickness of constituent layers of Ti and Ni varied from 1.7 nm to 10 nm, and one coating was deposited by simultaneous sputtering of both targets. Single crystalline silicon was used as a substrate. The effects of thermal treatment on the mechanical properties were studied using nanoindentation and discussed in relation to microstructure evaluated by X-ray diffraction. Annealing was carried out under low-pressure conditions for 2 hours in the range of 100–800°C.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
21000 - Nano-technology
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
NANOCON 2020: 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application
ISBN
9788087294987
ISSN
2694-930X
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
518-523
Název nakladatele
TANGER Ltd.
Místo vydání
Ostrava
Místo konání akce
Brno, Czech Republic
Datum konání akce
21. 10. 2020
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000664505500088