X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F93%3A00005849" target="_blank" >RIV/00216224:14310/93:00005849 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Popis výsledku v původním jazyce
X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Název v anglickém jazyce
X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Popis výsledku anglicky
X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
1993
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
1993
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
158
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—