Příprava tenkých filmů oxidu niobičného pomocí reaktivního naprašování magnetronem

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F06%3A00004488" target="_blank" >RIV/00216275:25310/06:00004488 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

Thin films of niobium oxide were deposited on silicon wafer, titanium and glass by the process of physical vapour deposition. Pure niobium solid target was used as a sputter source. Argon-oxygen admixture was introduced into the discharge chamber.

Název v anglickém jazyce

Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Popis výsledku anglicky

Thin films of niobium oxide were deposited on silicon wafer, titanium and glass by the process of physical vapour deposition. Pure niobium solid target was used as a sputter source. Argon-oxygen admixture was introduced into the discharge chamber.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

CA - Anorganická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Conference Papers CCT 2006

ISBN

80-7194-856-X

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

500-507

Název nakladatele

Univerzita Pardubice

Místo vydání

Pardubice

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—