Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F09%3A00009579" target="_blank" >RIV/00216275:25310/09:00009579 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

Popis výsledku v původním jazyce

The advantages and applications of chalcogenide glass ChG thin film photoresists for grayscale lithography are demonstrated. It is shown that the ChG films can be used to make ultrathin 600 nm, high-resolution grayscale patterns, which can find their application, for example, in IR optics.

Název v anglickém jazyce

Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

Popis výsledku anglicky

The advantages and applications of chalcogenide glass ChG thin film photoresists for grayscale lithography are demonstrated. It is shown that the ChG films can be used to make ultrathin 600 nm, high-resolution grayscale patterns, which can find their application, for example, in IR optics.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CA - Anorganická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

ISSN

1932-5150

e-ISSN

—

Svazek periodika

8

Číslo periodika v rámci svazku

4

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

11

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—