Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F09%3A00009579" target="_blank" >RIV/00216275:25310/09:00009579 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The advantages and applications of chalcogenide glass ChG thin film photoresists for grayscale lithography are demonstrated. It is shown that the ChG films can be used to make ultrathin 600 nm, high-resolution grayscale patterns, which can find their application, for example, in IR optics.

  • Název v anglickém jazyce

    Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning

  • Popis výsledku anglicky

    The advantages and applications of chalcogenide glass ChG thin film photoresists for grayscale lithography are demonstrated. It is shown that the ChG films can be used to make ultrathin 600 nm, high-resolution grayscale patterns, which can find their application, for example, in IR optics.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CA - Anorganická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

  • ISSN

    1932-5150

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    8

  • Číslo periodika v rámci svazku

    4

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    11

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus