Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F19%3A39914855" target="_blank" >RIV/00216275:25310/19:39914855 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022309319300109?via%3Dihub" target="_blank" >https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022309319300109?via%3Dihub</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2018.12.012" target="_blank" >10.1016/j.jnoncrysol.2018.12.012</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications
Popis výsledku v původním jazyce
Presented work compares optical and chemical properties of As30S70, As35S65 and As40S60 amorphous chalcogenide thin films deposited by thermal evaporation and by spin-coating. Structural and compositional differences given by the chosen deposition technique and post deposition treatment were revealed by Raman spectroscopy and EDS. Applicability of studied thin films in electron beam lithography was investigated using both monoamine and diamine based developers. Thermally evaporated thin films exhibited negative etching contrary to the spin-coated films which showed positive etching. Studied thin films proved to be suitable positive and negative photoresists for both grey-scale and step-like lithography.
Název v anglickém jazyce
Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications
Popis výsledku anglicky
Presented work compares optical and chemical properties of As30S70, As35S65 and As40S60 amorphous chalcogenide thin films deposited by thermal evaporation and by spin-coating. Structural and compositional differences given by the chosen deposition technique and post deposition treatment were revealed by Raman spectroscopy and EDS. Applicability of studied thin films in electron beam lithography was investigated using both monoamine and diamine based developers. Thermally evaporated thin films exhibited negative etching contrary to the spin-coated films which showed positive etching. Studied thin films proved to be suitable positive and negative photoresists for both grey-scale and step-like lithography.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
20506 - Coating and films
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Non-Crystalline Solids
ISSN
0022-3093
e-ISSN
—
Svazek periodika
508
Číslo periodika v rámci svazku
March
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
7-14
Kód UT WoS článku
000459357800002
EID výsledku v databázi Scopus
—