Zařízení k nanášení ultratenkých vrstev
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F13%3APA21039" target="_blank" >RIV/00216305:26210/13:PA21039 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zařízení k nanášení ultratenkých vrstev
Popis výsledku v původním jazyce
Ion-atomový zdroj s optimalizovanou tvorbou iontů pro depozici s asistencí iontů (IBAD) v podmínkách ultravysokého vakua (UHV). Vynález je kombinací efusní cely a elektron srážkového iontového zdroje poskytující iontové svazky o ultranízkých energiích v rozmezí od 30 eV až 200 eV. Snížení energie iontového svazku na hypertermní hodnoty (cca 10 eV) je realizováno bez ztráty optimálních ionizační podmínek. Toto je dosaženo především začleněním ionizační komory s mřížkou, která je dostatečně transparentní pro elektrony a ionty. Zdrojem jsou připravovány ultratenké vrstevy a nanostruktury s asistencí iontů o ultranízkých energiích s rychlostí růstu několika monovrstev za hodinu.
Název v anglickém jazyce
Devices for applying ultra-thin layers
Popis výsledku anglicky
The ion-atomic beam source with an optimized generation of ions for ion-beam-assisted deposition (IBAD) under ultra-high vacuum (UHV) conditions. The source combines an effusion cell and electron impact ion source and produces ion beams with ultra-low energies in the range from 30 eV to 200 eV. Decreasing ion beam energy to hyperthermal values (about 10 eV) without loosing optimum ionization conditions has been mainly achieved by the incorporation of an ionization chamber with a grid transparent enough for electron and ion beams. In this way, the energy and current density of nitrogen ion beams in the order of 10 eV and 100 nA/cm2, respectively, have been achieved. The source is capable of the growth of ultrathin layers or nanostructures at ultra-low energies with a growth rate of several MLs/hour.
Klasifikace
Druh
P - Patent
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Číslo patentu nebo vzoru
303867
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
24. 4. 2013
Název vlastníka
Vut Brno
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence