Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Aplikace sítoisku ve fotovoltaice

Popis výsledku

Sítotisk se ve fotovoltaice používá k realizaci kontaktů fotovoltaických článků. Rozdělujeme ho buď na sítotisk přední nebo zadní strany. Jako náplň pro tisk se používá Ag pasta. Po sítotisku následuje vysoušení nanesené. Účelem vysušení je zvýšení stability potisku a odstranění vlhkosti před výpalem. Vypálení je založeno na difúzi stříbra z kontaktu do požadované hloubky v křemíkové desce.

Klíčová slova

Screen printingsolar cell

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Application of Screen Printing in Photovoltaic

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The screen printing is used in the photovoltaic for the realization of solar cells´s contacts. The screen printing is divided on this one of the front side and that one of the back side. Ag paste is used as the filling for screen printing. The drying ofthe spread paste follows after the screen printing of the silicon wafer. The higher stability of the print and the elimination of humidity before the firing are the purpose of this drying. The firing is founded on Ag diffusion from the contact to the dessired depth in the silicon wafer.

  • Název v anglickém jazyce

    Application of Screen Printing in Photovoltaic

  • Popis výsledku anglicky

    The screen printing is used in the photovoltaic for the realization of solar cells´s contacts. The screen printing is divided on this one of the front side and that one of the back side. Ag paste is used as the filling for screen printing. The drying ofthe spread paste follows after the screen printing of the silicon wafer. The higher stability of the print and the elimination of humidity before the firing are the purpose of this drying. The firing is founded on Ag diffusion from the contact to the dessired depth in the silicon wafer.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Proceedings of the 11th Conference Student EEICT 2005

  • ISBN

    80-214-2889-9

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    252-255

  • Název nakladatele

    Ing. Zdeněk Novotný CSc.

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    28. 4. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku

Základní informace

Druh výsledku

D - Stať ve sborníku

D

CEP

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

Rok uplatnění

2005