Precizní monitorovací systém pro anisotropní leptání
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F05%3APU54673" target="_blank" >RIV/00216305:26220/05:PU54673 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Precise process monitoring system for anisotropic etching
Popis výsledku v původním jazyce
This paper covers precise monitoring system for monolithic tungsten wire manufacture. This device is designed in order to analyze and control optimal cathode etching process. Main function of this control unit is to control position system, measure etching current and temperature and control cathode etching process.
Název v anglickém jazyce
Precise process monitoring system for anisotropic etching
Popis výsledku anglicky
This paper covers precise monitoring system for monolithic tungsten wire manufacture. This device is designed in order to analyze and control optimal cathode etching process. Main function of this control unit is to control position system, measure etching current and temperature and control cathode etching process.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Socrates Workshop Intensive Training Programme in Electronic Systeme Design Proceedings.
ISBN
80-214-3042-7
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
152-154
Název nakladatele
Technological Institute of Chania
Místo vydání
Greece
Místo konání akce
Chania, Crete, Greece
Datum konání akce
21. 9. 2005
Typ akce podle státní příslušnosti
CST - Celostátní akce
Kód UT WoS článku
—