Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F16%3APU119456" target="_blank" >RIV/00216305:26220/16:PU119456 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1515/jee-2016-0034" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1515/jee-2016-0034</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1515/jee-2016-0034" target="_blank" >10.1515/jee-2016-0034</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This article deals with the investigation of the influence of sintering conditions on the formation process of screen printed contacts on passivated boron doped emitters. The experiment was focused on measuring of resistance changes of two thick film pastes during firing processes with different conditions. Two different temperature profiles were compared at an atmospheric concentration of O2. The influence of the O2 concentration on resistance was investigated for one profile. A rapid thermal processing furnace modified for in-situ resistance measurements was used. The change of resistance was measured simultaneously with the temperature.

  • Název v anglickém jazyce

    Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

  • Popis výsledku anglicky

    This article deals with the investigation of the influence of sintering conditions on the formation process of screen printed contacts on passivated boron doped emitters. The experiment was focused on measuring of resistance changes of two thick film pastes during firing processes with different conditions. Two different temperature profiles were compared at an atmospheric concentration of O2. The influence of the O2 concentration on resistance was investigated for one profile. A rapid thermal processing furnace modified for in-situ resistance measurements was used. The change of resistance was measured simultaneously with the temperature.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2016

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Electrical Engineering

  • ISSN

    1335-3632

  • e-ISSN

    1339-309X

  • Svazek periodika

    67

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    SK - Slovenská republika

  • Počet stran výsledku

    3

  • Strana od-do

    231-233

  • Kód UT WoS článku

    000385265800013

  • EID výsledku v databázi Scopus