Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Modelling of Magnetron TiN Deposition Using the Design of Experiment

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F21%3APU132633" target="_blank" >RIV/00216305:26220/21:PU132633 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://link.springer.com/chapter/10.1007/978-3-030-61659-5_6" target="_blank" >https://link.springer.com/chapter/10.1007/978-3-030-61659-5_6</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1007/978-3-030-61659-5_6" target="_blank" >10.1007/978-3-030-61659-5_6</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Modelling of Magnetron TiN Deposition Using the Design of Experiment

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The aim of this study was to find the optimal settings of magnetron sputtering deposition of thin titanium nitride layers with respect to the size and hardness of the deposited layer. Direct sputtering deposition of the ceramic target using a radiofrequency source was used for magnetron sputtering deposition. The advantage of this method is easier finding of optimal deposition parameters. X-ray reflectometry was used to characterize the coating in terms of thickness. The hardness was determined by the Berkovich tip. To optimize the thickness and hardness of the TiN coating, a rotatable central composite design of response area for pressure and performance was used. Using only statistically significant fac-tors, mathematical models of thickness and hardness of TiN coating were con-structed. Based on these mathematical models, the optimal settings of statistically significant TiN magnetron deposition factors were found.

  • Název v anglickém jazyce

    Modelling of Magnetron TiN Deposition Using the Design of Experiment

  • Popis výsledku anglicky

    The aim of this study was to find the optimal settings of magnetron sputtering deposition of thin titanium nitride layers with respect to the size and hardness of the deposited layer. Direct sputtering deposition of the ceramic target using a radiofrequency source was used for magnetron sputtering deposition. The advantage of this method is easier finding of optimal deposition parameters. X-ray reflectometry was used to characterize the coating in terms of thickness. The hardness was determined by the Berkovich tip. To optimize the thickness and hardness of the TiN coating, a rotatable central composite design of response area for pressure and performance was used. Using only statistically significant fac-tors, mathematical models of thickness and hardness of TiN coating were con-structed. Based on these mathematical models, the optimal settings of statistically significant TiN magnetron deposition factors were found.

Klasifikace

  • Druh

    C - Kapitola v odborné knize

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2021

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název knihy nebo sborníku

    Recent Advances in Soft Computing and Cybernetics

  • ISBN

    978-3-030-61659-5

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    63-70

  • Počet stran knihy

    320

  • Název nakladatele

    Springer

  • Místo vydání

    Švýcarsko

  • Kód UT WoS kapitoly